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第一百三十二章 中国硅谷（第2页）

所以把半导体的研制和生产列为要任务。

邓峰亲自挂帅，主抓多晶硅，单晶硅生产。

哟年。

月，也就是基地网刚穿越到这个时代，基地最先成立了“基地半导体研究所因为没有半导体工业和技术的支撑就不会有可控武器，就不可能有先进的雷达和通讯系统，基地的先进性就成了无本之源。

就没有现代化和信息化。

这对以群来至信息时代的人来说，是无法忍受的，就失去了自己应有的优势。

在抗美援朝最紧张的战争期间，基地克服了重重困难，在整个基地一线抽调了劲多精兵强将，为建立中国的基础工业和先进的信息产业，组建了诸多个“专业组，小到各个领域，深入工厂，下到基层，直接组织研和生产。

其中集中了基地微电子方面的飞员专业人员，在诣博士站电路设计工程师的率领下，进驻了。

沈阳铁西那个日伪时期的“奉天治金会社。

的冶炼厂。

开始进行多晶硅和单晶硅的生产。

在中央和地方的全力支持下，他们把基地医院的无菌手术室中的空气过派系统拆掉，用于建造了一间千级，一间万级和一间十万级乱流洁净车间，用与芯片的加工生产。

虽然大家对芯片的加工生产的工艺和技术都十分的了解。

但真正的想生产制造出来，的确也不是一件容易的事情，因为芯片的生产制造需要大量的专有设备。

如测试设备，电路蚀刻设备，就是光刻蚀这一道工序专有设备的制造就很复杂，光刻蚀在的芯片制造过程中就其本身的工艺就是一个非常复杂的步骤，为什么这么说呢？光刻蚀过程就是使用一定波长的光在感光层中刻出相应的刻痕，由此改变该处材料的化学特性。

这项技术对于所用光的波长要求极为严格，需要使用短波长的紫外线和大曲率的透镜。

刻蚀过程还会受到晶圆上的污点的影响。

每一步刻蚀都是一个复杂而精细的过程。

设计每一步过程的所需要的数据量都可以用必的单位来计量，而且制造每块处理器所需要的刻蚀步骤郗过力步，每一步进行一层刻蚀。

而且每一层方蚀的图纸如果放大许多倍的话，可以和整个纽约市外加郊区范围的地图相比，甚至还要复杂，试想一下，把整个纽约地图缩小到实际面积大小只有，四个平方毫米的芯片上，那么这个芯片的结构有多么复杂，可想而知了。

而且要制造出这样的生产设备来，的确不是一年半载就能作到的事。

没有鸡就没法产出蛋。

所以基地又集中了一些机械，光学，电子的专业人员，成生产设备的攻关小组，承担等离子刻蚀机的研生典※究先如何制造“鸡”

的问题。

基地半导体研究所，在进行对于芯片研究生产的同时，他们本着先易后难的原则，先把晶体管生产出来。

晶体管的生产相对芯片生产就简单多了。

他们知道，现在能搞出晶体管在这个时代以经是绝对领先了。

晶体管又称半导体三极管。

是内部含有两个刚结，外部通常为三咋，引出电极的半导体器件。

它的成本低，灵活性和可靠性都很好，使其成为非机械任务的通用器件，在数字计算和控制电器及机械方面，晶体管电路完全可以取代电机设备，而且它更便宜，更有效，使用电子控制来代替一个等效的机械控制会很简洁，更方便，更可靠。

田年代初世界还是处在电子管时代，对于晶体管世界主要达国家还处在研究摸索阶段。

同电子管相比，晶体管具有诸多优越性：晶体管的构件是没有消耗的。

晶体管的寿命一般比电子管长劝到旧四倍晶体管消耗电能极少，仅为电子管的几十分之一：晶体管不需预热，一开机就工作。

电子管设备无论如何都无法做不到这一点。

显然，在军事，测量等诸多方面，晶体管是非常有优势的；晶体管结实可靠，比电子管可靠四倍，耐冲击、耐振动，这都是电子管所无法比拟的。

另外，晶体管的体积只有电子管的十分之一到百分之一，放热很少，可用于设计型，复杂，更可靠的电路。